大连科利德光电子材料有限公司系大连科利德半导体材料股份有限公司的全资子公司，注册于辽宁省大连市，专注于半导体与光电子行业用高纯特种电子化学品的生产与销售。母公司成立于2001年，注册资本7500万元，曾于2023年申报科创板上市。

公司主营半导体制程用高纯电子化学品与光电子材料，产品线涵盖高纯氢氟酸（HF）、高纯盐酸、高纯硫酸、高纯氨水、高纯双氧水（H₂O₂）及混合酸配方产品，纯度等级覆盖SEMI G1至G5标准，最高纯度可达UP-SS级（金属离子杂质含量ppb级），满足集成电路晶圆湿法清洗、硅片刻蚀及光刻胶去除工序的严苛洁净度要求。光电子材料方向包括LED外延用高纯金属有机化合物前驱体，以及液晶显示屏玻璃基板蚀刻用缓冲氧化物蚀刻液（BOE）。产品生产工艺采用多级亚沸蒸馏提纯及离子交换深度净化工艺，生产环境达到ISO 5级洁净室标准。下游客户覆盖集成电路晶圆制造厂、半导体封装企业、LED芯片外延厂及平板显示面板制造商，产品通过进口替代路径进入国内晶圆厂供应链，并具备向东北亚半导体材料市场供货的能力。

母公司大连科利德半导体材料股份有限公司设有省级企业技术中心，持有发明专利多项，技术方向覆盖高纯氢氟酸亚沸蒸馏提纯工艺、电子级酸液金属离子深度去除及半导体清洗液配方设计；通过ISO 9001及ISO 14001认证；产品执行SEMI国际标准，具备向晶圆厂提供认证级别电子化学品的合规交付能力。

公司向国内集成电路晶圆制造企业稳定供应SEMI G4级高纯氢氟酸及高纯双氧水，产品应用于硅片RCA清洗与氧化层湿法刻蚀工序，推动国内半导体湿电子化学品的进口替代；向LED芯片外延厂供应高纯金属有机化合物前驱体，配套MBE及MOCVD外延生长工序；为平板显示面板企业提供BOE缓冲氧化物蚀刻液，应用于ITO导电薄膜图形化刻蚀工段。