中昊光明化工研究设计院有限公司（简称光明院）始建于1964年，前身为原化学工业部直属科研院所，现隶属中国中化控股有限责任公司（昊华化工科技集团体系），位于辽宁省大连市，是集电子特种气体科研、含氟特种化学品开发、化工工程设计及气体质量检测于一体的综合性研究机构，也是中国唯一以特种气体为主要研发方向的国家级工业科研设计院，属央企国有性质。

主营业务聚焦电子特种气体和含氟特种化学品的研发、生产与工程设计服务。电子特种气体产品涵盖三氟化氮（NF₃，用于半导体CVD腔室等离子体清洗及光伏薄膜刻蚀）、四氟化硅（SiF₄，集成电路离子注入及多晶硅生产，光明院为电子级SiF₄国家标准主要起草单位之一）、六氟化硫（SF₆，高压开关设备绝缘）、氟化氢（HF，半导体湿法刻蚀与清洗），产品纯度可达半导体级（5N，≥99.999%）规格；含氟特种化学品方向涵盖氢氟酸深加工、含氟中间体及氟利昂替代品的合成与提纯工艺开发。工程设计方面，光明院具备化工工程设计资质，承接特种气体生产装置、电子化学品工厂的工艺包开发、FEED及详细设计，支撑下游客户国产化项目工程化落地。

光明院下设四个权威检测平台：石油和化学工业产品质量检验中心（中国石化联授权）、化学工业气体质量监督检验中心（CMA认定）、大连光明化学工业气体质量监测中心（CNAS认可）及工业气体产品质量控制和技术评价实验室（工信部核定）；被认定为国家高新技术企业、辽宁省企业技术中心、辽宁省工程技术中心，参与起草和修订国家标准36项；是科技部「多晶硅产业技术创新战略联盟」及「集成电路材料产业技术创新战略联盟」成员；建院以来完成国家级科研项目500余项，获科研成果奖203项，含国家级奖31项、省部级奖97项。

NF₃产品服务国内半导体晶圆厂及光伏组件制造商，推动关键电子工艺气体国产化替代进口；电子级SiF₄已参与制定国家标准并供应集成电路离子注入工艺；CNAS/CMA认可检测平台为国内外特种气体生产企业提供第三方质量仲裁与认证服务。